ASML EUV Gücünü 1000 Watt’a Taşıdı, Üretim %50 Artacak

ASML, EUV litografi ışık kaynağının gücünü 1000 watt seviyesine taşıyarak on yılın sonuna doğru her makineden yaklaşık %50 daha fazla çip üretiminin önünü açtı. Şirket, bugün saat başına ortalama 220 wafer seviyesinde olan verimliliğin 2030 civarında yaklaşık 330 wafer/saate çıkabileceğini söylüyor. Bu artış, pozlama sürelerini kısaltıp çip başına maliyeti düşürmeyi hedefliyor. ASML’nin EUV ışık kaynağı…